问题：
[判断题] 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。
正确。错误。
问题：
[判断题] 步进光刻机的三个基本目标是对准聚焦、曝光和合格产量。
正确。错误。
问题：
[判断题] 光刻区使用黄色荧光灯照明的原因是，光刻胶只对特定波长的光线敏感，例如深紫外线和白光，而对黄光不敏感。
正确。错误。
问题：
[判断题] 曝光后烘焙，简称后烘，其对传统I线光刻胶是必需的。
正确。错误。
问题：
[判断题] 对正性光刻来说，剩余不可溶解的光刻胶是掩膜版图案的准确复制。
正确。错误。
问题：
[判断题] 芯片上的物理尺寸特征被称为关键尺寸，即CD。
正确。错误。
问题：
[判断题] 光刻的本质是把电路结构复制到以后要进行刻蚀和离子注入的硅片上。
正确。错误。
问题：
[判断题] 有光刻胶覆盖硅片的三个生产区域分别为光刻区、刻蚀区和扩散区。
正确。错误。
问题：
[判断题] 投影掩膜版上的图形是由金属钽所形成的。
正确。错误。
问题：
[判断题] 光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力。
正确。错误。
