当前位置:电子与通信技术题库>集成电路工艺原理题库

问题:

[判断题] 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。

A . 正确
B . 错误

发现可疑爆炸物,应在不触动可疑物的前提下,通过()识别。 正确。 错误。 步进光刻机的三个基本目标是对准聚焦、曝光和合格产量。 正确。 错误。 遥信,即(),它是将采集到的被监控发电厂或变电所的设备状态信号,按规约传送给调度中心。 正确。 错误。 【从订单自动转成采购单】时,供应商可以选择()? 正确。 错误。 没有CMP,就不可能生产甚大规模集成电路芯片。 正确。 错误。 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。
参考答案:

  参考解析

本题暂无解析

在线 客服