登录
注册
欢迎来到问答库
问答库官网
搜索答案
网站首页
建筑工程
IT认证
资格考试
会计考试
医药考试
外语考试
外贸考试
学历考试
当前位置:电子与通信技术题库>
集成电路工艺原理题库
问题:
[判断题] 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。
A . 正确
B . 错误
发现可疑爆炸物,应在不触动可疑物的前提下,通过()识别。 正确。 错误。 步进光刻机的三个基本目标是对准聚焦、曝光和合格产量。 正确。 错误。 遥信,即(),它是将采集到的被监控发电厂或变电所的设备状态信号,按规约传送给调度中心。 正确。 错误。 【从订单自动转成采购单】时,供应商可以选择()? 正确。 错误。 没有CMP,就不可能生产甚大规模集成电路芯片。 正确。 错误。 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。
参考答案:
查看
●
参考解析
本题暂无解析
相关题目:
发现可疑爆炸物,应在不触动可疑物的前提下,通过()识别。
步进光刻机的三个基本目标是对准聚焦、曝光和合格产量。
遥信,即(),它是将采集到的被监控发电厂或变电所的设备状态信号,按规约传送给调度中心。
【从订单自动转成采购单】时,供应商可以选择()?
没有CMP,就不可能生产甚大规模集成电路芯片。
在线 客服
相关内容
●
妊娠诊断题库
●
电镜室及分子病理室题库
●
正常产褥题库
●
分娩期并发症题库
●
公共卫生服务题库
●
内蒙古住院医师耳鼻咽喉科题库
●
职业素质题库
●
病史采集题库
相关标签
公务员
考试
尔雅
论文
作业
考研资料