问题：
[判断题] 快速热处理是一种小型的快速加热系统，带有辐射热和冷却源，通常一次处理一片硅片。
正确。错误。
问题：
[判断题] CVD是利用某种物理过程，例如蒸发或者溅射现象实现物质的转移，即原子或分子由源转移到衬底（硅）表面上，并淀积成薄膜。
正确。错误。
问题：
[判断题] 高阻衬底材料上生长低阻外延层的工艺称为正向外延。
正确。错误。
问题：
[判断题] LPCVD反应是受气体质量传输速度限制的。
正确。错误。
问题：
[判断题] 外延就是在单晶衬底上淀积一层薄的单晶层，即外延层。
正确。错误。
问题：
[判断题] 在半导体产业界第一种类型的CVD是APCVD。
正确。错误。
问题：
[判断题] 外延就是在单晶衬底上淀积一层薄的单晶层，分为同质外延和异质外延两大类。
正确。错误。
问题：
[判断题] APCVD反应器中的硅片通常是平放在一个平面上。
正确。错误。
问题：
[判断题] 与APCVD相比，LPCVD有更低的成本、更高的产量以及更好的膜性能，因此应用更为广泛。
正确。错误。
问题：
[判断题] LPCVD紧随PECVD的发展而发展。由660℃降为450℃，采用增强的等离子体，增加淀积能量，即低压和低温。
正确。错误。
