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集成电路工艺原理题库
问题:
[判断题] LPCVD反应是受气体质量传输速度限制的。
A . 正确
B . 错误
外延就是在单晶衬底上淀积一层薄的单晶层,即外延层。 正确。 错误。 发电车中修修竣后要进行整车动态交验, 机组的动态加载时间不少于()小时, 并认真填写交验记录。 正确。 错误。 连接局部网的中继装置有转发器、桥、路、()。 正确。 错误。 影响基坑边坡大小的因素有()。 正确。 错误。 集团公司本部(母公司)可为成员企业提供保证担保,担保额度不得超过自身净资产的()。 正确。 错误。 LPCVD反应是受气体质量传输速度限制的。
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外延就是在单晶衬底上淀积一层薄的单晶层,即外延层。
发电车中修修竣后要进行整车动态交验, 机组的动态加载时间不少于()小时, 并认真填写交验记录。
连接局部网的中继装置有转发器、桥、路、()。
影响基坑边坡大小的因素有()。
集团公司本部(母公司)可为成员企业提供保证担保,担保额度不得超过自身净资产的()。
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