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集成电路工艺原理题库
问题:
[判断题] 与APCVD相比,LPCVD有更低的成本、更高的产量以及更好的膜性能,因此应用更为广泛。
A . 正确
B . 错误
LPCVD紧随PECVD的发展而发展。由660℃降为450℃,采用增强的等离子体,增加淀积能量,即低压和低温。 正确。 错误。 负有事故全部责任的,承担事故损失费用的()。 正确。 错误。 日光温室冬春茬茄子怎样进行整枝留果? 正确。 错误。 总线结构网络常用于()中。 正确。 错误。 干扰、阻碍事故调查处理的,对个人处()罚款。 正确。 错误。 与APCVD相比,LPCVD有更低的成本、更高的产量以及更好的膜性能,因此应用更为广泛。
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LPCVD紧随PECVD的发展而发展。由660℃降为450℃,采用增强的等离子体,增加淀积能量,即低压和低温。
负有事故全部责任的,承担事故损失费用的()。
日光温室冬春茬茄子怎样进行整枝留果?
总线结构网络常用于()中。
干扰、阻碍事故调查处理的,对个人处()罚款。
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