问题：
[问答题,论述题] 简述几种典型真空泵的工作原理。
问题：
[问答题,论述题] 下图为直流等离子放电的I-V曲线，请分别写出a-g各段的名称。可用作半导体制造工艺中离子轰击的是其中哪一段？试解释其工作原理。
问题：
[问答题,论述题] 射频放电与直流放电相比有何优点？
问题：
[问答题,论述题] 简述BOE（或BHF）刻蚀SiO2的原理。
问题：
[问答题,论述题] 根据原理分类，干法刻蚀分成几种？各有什么特点？
问题：
[问答题,论述题] 采用CF4作为气体源对SiO2进行刻蚀，在进气中分别加入O2或H2对刻蚀速率有什么影响？随着O2或H2进气量的增加，对Si和SiO2刻蚀选择性怎样变化？为什么？
问题：
[问答题,论述题] 在干法刻蚀的终点检测方法中，光学放射频谱分析法最常见，简述其工作原理和优缺点。
问题：
[问答题,论述题] 根据曝光方式的不同，光学光刻机可以分成几类？各有什么优缺点？
问题：
[问答题,论述题] 在光刻中，能够在增加分辨率的同时增加聚焦深度吗？为什么？
问题：
[问答题,论述题] 个投影曝光系统采用ArF光源，数值孔径为0.6，设k1=0.6，n=0.5，计算其理论分辨率和焦深。
