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半导体制造技术题库
问题:
[问答题,论述题] 根据曝光方式的不同,光学光刻机可以分成几类?各有什么优缺点?
在使用地阻仪测试地阻时,接地桩与备测地线之间的距离至少为:() ["0-5米","5-10米","10-15米","15-20米"] 透射电镜超薄切片常用()和()染色,电镜照片上呈黑或深灰色的结构称(),呈浅灰色的结构称()。 水平极化的电磁波() ["能发生全透射","不能发生全透射","以上都不可能","以上都有可能"] 什么是事件顺序记录(SOE)? 单方过失碰撞责任 根据曝光方式的不同,光学光刻机可以分成几类?各有什么优缺点?
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在使用地阻仪测试地阻时,接地桩与备测地线之间的距离至少为:()
透射电镜超薄切片常用()和()染色,电镜照片上呈黑或深灰色的结构称(),呈浅灰色的结构称()。
水平极化的电磁波()
什么是事件顺序记录(SOE)?
单方过失碰撞责任
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