问题：
[问答题,论述题] 分别简述RVD和GILD的原理，它们的优缺点及应用方向。
问题：
[问答题,论述题] 集成电路制造中有哪几种常见的扩散工艺？各有什么优缺点？
问题：
[问答题,论述题] 杂质原子的扩散方式有哪几种？它们各自发生的条件是什么？从原子扩散的角度举例说明氧化增强扩散和氧化阻滞扩散的机理。
问题：
[问答题,简答题] 写出菲克第一定律和第二定律的表达式，并解释其含义。
问题：
[问答题,论述题] 以P2O5为例，多晶硅中杂质扩散的方式及分布情况。
问题：
[问答题,论述题] 假设进行一次受固溶度限制的预淀积扩散，从掺杂玻璃源引入的杂质总剂量为Qcm-2。
问题：
[问答题,简答题] 什么是两步扩散工艺，其两步扩散的目的分别是什么？
问题：
[问答题,简答题] 简述几种常用的氧化方法及其特点。
问题：
[问答题,论述题] 说明SiO2的结构和性质，并简述结晶型SiO2和无定形SiO2的区别。
问题：
[问答题,论述题] 以P2O2为例说明SiO2的掩蔽过程。
