问题：
[判断题] 液相外延的原理是饱和溶液随着温度的降低产生过饱和结晶。（）
正确。错误。
问题：
[判断题] 半导体芯片制造工艺对水质的要求一般.（）
正确。错误。
问题：
[判断题] 光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的，曝光后硬化成不可溶解的物质，这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂，由此组成的光刻胶称为负性胶。（）
正确。错误。
问题：
[判断题] 设备、试剂、气瓶等所有物品不需经严格清洁处理，可直接进入净化区。（）
正确。错误。
问题：
[判断题] 干法腐蚀清洁、干净、无脱胶现象、图形精度和分辨率高。（）
正确。错误。
问题：
[判断题] 在半导体集成电路中，各元器件都是制作在同一晶片内。因此要使它们起着预定的作用而不互相影响，就必须使它们在电性能上相互绝缘。（）
正确。错误。
问题：
[判断题] 金属剥离工艺是以具有一定图形的光致抗蚀剂膜为掩膜，带胶蒸发或溅射所需的金属，然后在去除光致抗蚀剂膜的同时，把胶膜上的金属一起去除干净。（）
正确。错误。
问题：
[判断题] 表面钝化工艺是在半导体芯片表面复盖一层保护膜，使器件的表面与周围气氛隔离。（）
正确。错误。
