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半导体芯片制造中级工题库
问题:
[判断题] 光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的,曝光后硬化成不可溶解的物质,这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂,由此组成的光刻胶称为负性胶。()
A . 正确
B . 错误
常用制动冲击率为()。 正确。 错误。 静电起火三要素()。 正确。 错误。 帕森斯对组织的分类有() 正确。 错误。 世界四大博物馆是什么? 正确。 错误。 半导体芯片制造工艺对水质的要求一般.() 正确。 错误。 光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的,曝光后硬化成不可溶解的物质,这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂,由此组成的光刻胶称为负性胶。()
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