[判断题] 半导体芯片制造工艺对水质的要求一般.（）

简述公证书的制作要求。 正确。 错误。 光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的，曝光后硬化成不可溶解的物质，这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂，由此组成的光刻胶称为负性胶。（） 正确。 错误。 综采工作面支架中心距误差不得超过（）mm。 正确。 错误。 孔德社会学说的支柱是（） 正确。 错误。 关于制定工资指导线的说法，正确的有（）。 正确。 错误。 半导体芯片制造工艺对水质的要求一般.（）