题目：铁氰化钾-鲁米诺体系后化学发光行为及分子印迹-后化学发光分析法的研究

摘要：化学发光分析法以其灵敏度高、线性范围宽、分析速度快以及仪器设备相对简单便宜等诸多优点，已被广泛应用于许多领域。但是选择性不好的缺点，使得化学发光法难以直接应用于复杂样品中分析物的测定。因此提高化学发光分析方法的选择性是一项十分紧迫、十分有意义的工作。
分子印迹技术是近年来出现的一种对目标分子有高度选择性的技术。由于分子印迹聚合物中含有和目标分子高度互补的空腔结构，因而对目标分子表现出惊人的专一识别性。将分子印迹技术应用于化学发光分析中，利用分子印迹聚合物对目标分子特异的识别和捕获能力，将待测物质与复杂样品中的共存组分分离，而后进行化学发光测定，从根本上解决化学发光选择性差的问题。这是我们建立分析印迹-化学发光分析法的目的所在。
近年来，有人发现了一种新的化学发光现象—后化学发光现象，建立了一些物质的后化学发光分析方法。但是，和一般的化学发光分析方法一样，也存在选择性不好的问题，所以，后化学发光法与分子印迹技术结合，建立分子印迹-后化学发光分析法也是很有意义的研究工作。
本论文分为两部分，第一部分为综述，第二部分为研究报告。
第一部分简要阐述了分子印迹技术的历史概况、基本原理和特点、分子印迹技术的分类、分子印迹技术的热力学和动力学、分子印迹聚合物选择性的影响因素、分子印迹聚合物的制备、近几年来分子印迹技术的应用和该技术目前存在的问题。
介绍了近年来鲁米诺-铁氰化钾化学发光体系的研究及其分析应用。
第二部分为具体研究工作。发现了双嘧达莫、焦性没食子酸、氨苄西林三种物质在铁氰化钾-鲁米诺体系中的后化学发光现象，丰富了化学发光反应的内容；并探讨了此后化学发光反应的机理，为进一步揭示后化学发光反应的本质和把握后化学发光反应的规律积累了有用的素材；合成了双嘧达莫和焦性没食子酸两种分子印迹聚合物，以分子印迹聚合物为识别物质，建立了测定这些物质的分子印迹-后化学发光分析方法，提高了化学发光分析法的选择性。这些分析方法已被应用于实际样品中双嘧达莫、焦性没食子酸和氨苄西林的测定。同时，还初步建立了测定单乙酰吗啡的流动注射化学发光新方法。
研究报告由四部分组成：
1 分子印迹-后化学发光法测定双嘧达莫
发现了双嘧达莫在铁氰化钾-鲁米诺化学发光反应体系中的后化学发光反应。在对这一后化学发光反应的动力学性质、化学发光光谱、荧光光谱以及一些相关问题研究的基础上，探讨了其反应机理；合成了双嘧达莫的分子印迹聚合物，以此聚合物为分子识别物质，利用铁氰化钾-鲁米诺-双嘧达莫后化学发光体系，建立了测定双嘧达莫的高选择性分子印迹-后化学发光分析方法。所建方法的线性范围为1.0×10-8～1.0×10-6g/mL（r=0.9992），检出限为3×10-9g/mL，相对标准偏差为2.7%（1.0×10-7g/mL双嘧达莫，n=11）。
2 分子印迹-后化学发光法测定焦性没食子酸
发现了焦性没食子酸在铁氰化钾-鲁米诺化学发光反应体系中的后化学发光反应。对其可能的反应机理，进行了探讨并得出初步的结论；以甲基丙烯酸为功能单体，乙二醇二乙酸甲酯为交联剂，合成了焦性没食子酸的分子印迹聚合物，以此聚合物为分子识别物质，利用建立的鲁米诺-铁氰化钾后化学发光体系，建立了测定焦性没食子酸的分子印迹-后化学发光分析方法。所建方法的线性范围为1.010-9～1.010-7 g/mL，检出限为3×10-10 g/mL焦性没食子酸，对5.0×10-8g/mL的焦性没食子酸进行11次平行测定的相对标准偏差为3.2%。
3 鲁米诺-铁氰化钾流动注射后化学发光体系测定氨苄西林
发现了氨苄西林在铁氰化钾-鲁米诺化学发光反应体系中有后化学发光现象， 讨论了这一化学发光反应可能的反应机理；建立了利用此化学发光反应测定氨苄西林的流动注射化学发光新方法。所建方法的线性范围为1.0×10-6～1.0×10-4 g/mL，检出限为3×10-7 g/mL氨苄西林，对1.0×10-5 g/mL的氨苄西林进行11次平行测定的相对标准偏差为1.9%。
4 流动注射化学发光体系测定单乙酰吗啡
在多聚磷酸介质中，高锰酸钾氧化单乙酰吗啡可以产生化学发光，据此，初步建立了单乙酰吗啡的流动注射化学发光法，并优化了分析条件，该方法检出限为210-10g/mL单乙酰吗啡，线性响应范围为5.010-9～1.010-7 g/mL。对于5.010-8 g/mL单乙酰吗啡进行11次测定，相对标准偏差为1.8%。