问题：
[判断题] 釉质龋的发展过程中，损害进展的最前沿是暗带。
正确。错误。
A．大于釉质厚度的1/2。B．小于釉质厚度的1/3。C．小于釉质厚度的2/3。D．大于釉质厚度的1/3。E．大于釉质厚度的2/3。
问题：
[单选] 根据G．V．BlACk分类法，下颌磨牙颊侧面2/3的颊面洞属于()
A．Ⅰ类洞。B．Ⅱ类洞。C．Ⅲ类洞。D．Ⅳ类洞。E．Ⅴ类洞。
问题：
[单选] 备洞时洞侧壁的釉质壁必须与釉柱的方向()
A．呈75度。B．垂直。C．平行。D．呈30度。E．呈60度。
问题：
[单选] 临床记录时，常以英文字母的大写形式表示龋损或窝洞的位置，L表示()
A．舌面。B．切缘。C．面。D．唇面。E．腭面。
问题：
[单选] 为达到良好的抗力形，下列哪项是错的()
A．洞底要平，洞底轴壁与髓壁相交形成的轴髓线角不应超过锋锐。B．洞形要有一定的深度。C．邻洞应制成阶梯。D．邻洞邻面部分龈壁应作成斜向龈方的斜面。E．去除薄壁弱尖。
A．尽可能去除龋坏组织。B．底平壁直、点线角清晰。C．边缘外形线应备成圆缓曲线。D．洞壁无倒凹。E．作预防性扩展。
A．必须做鸠尾。B．无需做鸠尾。C．在舌侧(腭侧)作相应的鸠尾。D．在颊侧设计相应鸠尾。E．以上都不对。
A．严格的抗力形。B．适当的固位形。C．底平壁直。D．与牙面外形一致。E．必须做鸠尾。
问题：
[单选] Ⅴ类洞必要时可在何处做倒凹以增加固位()
A．洞壁与轴壁相交的线角。B．近中轴线角。C．远中轴线角。D．轴线角和龈轴线角。E．洞壁任何部位。
