Ⅴ类洞充填备洞后时，要求() A．严格的抗力形。 B．适当的固位形。 C．底平壁直。 D．与牙面外形一致。 E．必须做鸠尾。
Ⅲ类洞制备时() A．必须做鸠尾。 B．无需做鸠尾。 C．在舌侧(腭侧)作相应的鸠尾。 D．在颊侧设计相应鸠尾。 E．以上都不对。
下列备洞原则中哪项是错的() A．尽可能去除龋坏组织。 B．底平壁直、点线角清晰。 C．边缘外形线应备成圆缓曲线。 D．洞壁无倒凹。 E．作预防性扩展。
根据G．V．BlACk分类法，下颌磨牙颊侧面2/3的颊面洞属于() A．Ⅰ类洞。 B．Ⅱ类洞。 C．Ⅲ类洞。 D．Ⅳ类洞。 E．Ⅴ类洞。
釉质成形术磨去的釉质部分应() A．大于釉质厚度的1/2。 B．小于釉质厚度的1/3。 C．小于釉质厚度的2/3。 D．大于釉质厚度的1/3。 E．大于釉质厚度的2/3。
临床记录时，常以英文字母的大写形式表示龋损或窝洞的位置，L表示()
