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问题:

[单选] 为达到良好的抗力形,下列哪项是错的()

A . A.洞底要平,洞底轴壁与髓壁相交形成的轴髓线角不应超过锋锐
B . B.洞形要有一定的深度
C . C.邻洞应制成阶梯
D . D.邻洞邻面部分龈壁应作成斜向龈方的斜面
E . E.去除薄壁弱尖

Ⅴ类洞必要时可在何处做倒凹以增加固位() A.洞壁与轴壁相交的线角。 B.近中轴线角。 C.远中轴线角。 D.轴线角和龈轴线角。 E.洞壁任何部位。 Ⅴ类洞充填备洞后时,要求() A.严格的抗力形。 B.适当的固位形。 C.底平壁直。 D.与牙面外形一致。 E.必须做鸠尾。 Ⅲ类洞制备时() A.必须做鸠尾。 B.无需做鸠尾。 C.在舌侧(腭侧)作相应的鸠尾。 D.在颊侧设计相应鸠尾。 E.以上都不对。 备洞时洞侧壁的釉质壁必须与釉柱的方向() A.呈75度。 B.垂直。 C.平行。 D.呈30度。 E.呈60度。 根据G.V.BlACk分类法,下颌磨牙颊侧面2/3的颊面洞属于() A.Ⅰ类洞。 B.Ⅱ类洞。 C.Ⅲ类洞。 D.Ⅳ类洞。 E.Ⅴ类洞。 为达到良好的抗力形,下列哪项是错的()
参考答案:

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