Ⅲ类洞制备时() A．必须做鸠尾。 B．无需做鸠尾。 C．在舌侧(腭侧)作相应的鸠尾。 D．在颊侧设计相应鸠尾。 E．以上都不对。
下列备洞原则中哪项是错的() A．尽可能去除龋坏组织。 B．底平壁直、点线角清晰。 C．边缘外形线应备成圆缓曲线。 D．洞壁无倒凹。 E．作预防性扩展。
为达到良好的抗力形，下列哪项是错的() A．洞底要平，洞底轴壁与髓壁相交形成的轴髓线角不应超过锋锐。 B．洞形要有一定的深度。 C．邻洞应制成阶梯。 D．邻洞邻面部分龈壁应作成斜向龈方的斜面。 E．去除薄壁弱尖。
釉质成形术磨去的釉质部分应() A．大于釉质厚度的1/2。 B．小于釉质厚度的1/3。 C．小于釉质厚度的2/3。 D．大于釉质厚度的1/3。 E．大于釉质厚度的2/3。
釉质龋的发展过程中，损害进展的最前沿是暗带。
备洞时洞侧壁的釉质壁必须与釉柱的方向()
