当前位置:物理学题库>半导体材料题库

问题:

[问答题,简答题] 例举离子注入工艺和扩散工艺相比的优点和缺点。

离子源的目的是什么?最常用的离子源是什么? 例举离子注入设备的5个主要子系统。 触腕穗 计算题:某一线路施工,采用异长法观察弧垂,已知导线的弧垂为5.25m,在A杆上绑弧垂板距悬挂点距离a=3.5m,试求在B杆上应挂弧垂板距悬挂点多少m? 写出D1-ⅢG调车基本进路中,选岔网络有关继电器动作顺序。 例举离子注入工艺和扩散工艺相比的优点和缺点。
参考答案:

  参考解析

本题暂无解析

在线 客服