[多选] 不允许制冷剂直接接触的物品包括（）

薄膜光伏电池制备工艺中，等离子增强化学气相沉淀法的英文缩写是（） A.PVD。 B.LPVCD。 C.PEVCD。 D.LVCD。 电池片表面的镀膜厚度是利用光学中的（）原理来减少反射。 A.相长干涉。 B.折射。 C.相消干涉。 D.光的衍射。 男性，55岁。咳嗽、痰血、体重减轻3个月。近2周出现声嘶就诊。痰脱落细胞阳性，纤维支气管镜见右肺上叶支气管口新生物致管腔完全阻塞。该患者声嘶是由于（）. A.肿瘤压迫副神经。 肿瘤压迫舌咽神经。 肿瘤压迫舌下神经。 肿瘤压迫喉返神经。 肿瘤压迫迷走神经。 下列方程式中属于二氧化硅刻蚀工艺的是（）。 A.4HF+Si=SiF₄+2H₂↑。 B.CF₄+SiO₂——→SiF₄+CO₂↑。 C.CF₄+SiO₂+O₂——→SiF₄+CO₂↑。 D.SiO₂+4HF——→SiF₄+2H₂O。 符合行业标准的制冷剂检漏方法是（） 荧光剂检漏。 肥皂水检漏。 真空检漏。 加压检漏。 不允许制冷剂直接接触的物品包括（）