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问题:

[单选,A2型题,A1/A2型题] 基托蜡型制作时,下列哪个区域应稍薄()

A . A.唇侧边缘
B . B.颊侧边缘
C . C.骨隆突区
D . D.腭皱襞处
E . E.上颌腭侧后缘

塑料基托颊侧的边缘形态,磨光后的要求应为() 刃状形。 半圆形。 方圆形。 斜坡形。 以上都不对。 峰电位的幅值等于()   静息电位与负后电位之和。 K+平衡电位与超射值之和。 静息电位绝对值与超射值之和。 Na+的平衡电位。 K+的平衡电位。 全口义齿的缓冲区未予缓冲处理,最可能出现的后果是() 义齿咀嚼功能不良。 义齿固位差。 义齿翘动。 疼痛。 义齿纵折。 绝对不应期出现在动作电位的哪一时相() 峰电位。 负后电位。 正后电位。 除极相。 恢复相。 制作上颌基托时,其基托伸展范围的大小与下列内容关系不密切的是() 缺失区的部位。 缺牙的多少。 牙槽嵴的吸收程度。 支持形式。 人工牙的种类。 基托蜡型制作时,下列哪个区域应稍薄()
参考答案:

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