题目：非接触式预对准控制系统的研究

21世纪，微电子技术一直是信息产业的中流砥柱，作为微电子产业的重要工具， 光刻机在半导体制造业里是一种十分重要的设备。晶圆预对准系统对于曝光设备十分重要，晶圆在被送到工作台曝光前，会先在预对准台上进行一次对准定位工作。所以，晶圆预对准的对准精度就显得十分重要。由于其工艺要求较高，这使得预对准台目前的制造成本相当昂贵，因此研制体积小，满足工艺精度、速度要求，成本相对低廉的预对准系统具有非常重要的价值和意义。

研究针对晶圆预对准台的控制要求，设计了位置环PID控制器，引入了速度前馈，加速度前馈和陷波滤波器的设计环节，实现“三闭环PID加前馈补偿”结构的复合式控制策略，而且对控制参数进行设置，保证了控制精度。

设计了晶圆预对准的定位检测算法：最小二乘法，运用边缘变化率法计算缺边范围。确定了拟合的方法求出缺边校正角度。

设计了一种可靠的误差补偿方法。研究预对准系统定位存在的误差，通过建立的补偿表进行误差补偿，有效提高对准精度。

最后，进行了整个系统的验证研究，通过一系列的检测方法，验证了系统的整体性能，开发了满足设计要求的预对准控制系统。