选磨的目的是() 消除正中

早接触。 消除侧向

干扰。 消除前伸

干扰。 降低垂直距离。 达到平衡

。
关于平面说法,错误的是() ['

平面的前部位于上唇下缘下方2mm处。

平面在前方应与瞳孔连线平行。

平面在侧方应与鼻翼耳屏线平行。

平面应与地面平行。 下颌

平面位于舌侧外缘最突出处。
全口义齿排牙完成后,平衡调整前应具备的条件是() ['['正中

广泛紧密接触。 前牙排成浅覆

。 后牙具有合适的补偿曲线。 后牙具有合适的横

曲线。 以上均是。
Na+通过离子通道的跨膜转运过程属于() 单纯扩散。 易化扩散。 主动转运。 继发主动转运。 出胞作用或者入胞作用。
全口义齿的平衡是指() 下颌侧方运动时,上下颌相关的牙都能接触。 下颌正中咬合时,上下颌相关的牙都能接触。 下颌作正中咬合或侧方

时,上下颌相关的牙能接触。 下颌作前伸或正中咬合时,上下颌相关的牙都能接触。 下颌作前伸或侧方运动时,上下颌相关的牙都能接触。
全口义齿基托边缘伸展的原则应该是()