2016年浙江工商大学知识产权法学专业知识产权法复试笔试仿真模拟题
● 摘要
一、名词解释
1． 商标标识印制管理
【答案】商标印制管理，是指包括对商标印制单位的资格要求、商标印制单位的商标印制管理制度、商标印制的承印和拒印以及违反商标印制管理法律规定应承担的法律责任在内的管理制度。
商标印制单位的管理制度是商标印制管理制度的核心，具体包括:
①商标印制的审核制度
印制单位的商标印刷业务管理人员应当严格审查委托人提供的有关证明文件及商标图样，凡手续齐全符合法定条件的，可予以承印，否则应予以拒印。
②登记制度和档案制度
商标印制单位应将商标印制委托人委托印制商标的情况填写《商标印制业务登记表》，上面要写明商标印制委托人所提供的证明文件的主要内容。
③商标标识出入库制度
商标标识出入库时，商标印制单位应当清点数量和登记台账，保证印制的商标出入正确，杜绝违法印制的商标投放市场。
④废次商标标识销毁制度
废次商标标识销毁制度，是指对印刷中产生的废次商标标识进行登记造册，由印制单位统一销毁的制度。
2． 思想/表达二分法
【答案】思想与表达二分法的基本含义即著作权保护不能延伸到作品中包含或体现的思想，而只能延伸到作品中这些思想的特定表达。作品是指文学、文艺和科学领域内具有独创性，并能以某种有形形式复制的智力创造成果。思想与表达都是作品构成中不可或缺的部分，即任何作品都包含了思想与表达，并且它们之间的区别不可避免地存在着程度问题。作品是具有独创性的表达思想或感情并具有个性特点的智力创作成果。一般而言，某一作品中体现的思想可以以不同的表达方式来加以体现。针对同一思想的不同表达方式，不同作者可以分别获得独立的著作权。任何著作权实际上是就特定思想的特定表达所享有的专有权利。
3． 专利独占许可与普通许可
【答案】（1）概念
独占许可是指在一定地域内，被许可方在合同有效期间对被许可使用的专利技术拥有独占的权利，许可方自己不能在该地域内使用其专利技术，也不得把该技术再许可第三方使用，但专利
的所有权仍属于许可方。这种许可方式不轻易被采用，它对专利权人限制太多。
普通许可是指许可方允许被许可方在指定的地域内使用其专利技术，同时，许可方自己有权在该地域内使用该技术，也可以许可第三方使用。
（2）联系
独占许可与普通许可都是我国专利法上规定的专利许可方式，都适用《专利法》的有关规定。
（3）区别
①专利独占许可中许可方在合同有效期间内不能再将该技术许可第三方使用; 普通许可中，许可方可以将该技术再许可第三方使用。
②专利独占许可中许可人自己也不能在该地域内使用其专利技术，而普通许可中许可方自己还可以继续使用该专利技术。
4． 商标假冒与反向假冒
【答案】（1）概念
商标假冒是指未经商标注册人的许可，在同一种商品或者类似商品上使用与其注册商标相同或者近似的商标。在实践中，这种侵权行为主要表现为以下四种情况:①在同一种商品上使用与他人注册商标相同的商标; ②在同一种商品上使用与他人注册商标近似的商标; ③在类似商品上使用与他人注册商标相同的商标; ④在类似商品上使用与他人注册商标近似的商标。
商标的反向假冒，是指假冒者将他人带有注册商标的商品买来后，撤掉原来的注册商标，换上假冒者自己的商标，再把商品投向市场的行为。未经商标注册人同意，他人更换其注册商标并将该更换商标的商品又投入市场的行为，被称为商标的反向假冒。
（2）二者的联系
二者都是对他人注册商标的侵犯，都属于商标法中所规定的商标侵权行为; 此外，二者适用的法律相同，都受《商标法》的规制。
（3）二者的区别
商标假冒中行为人盗用的是商标权人的商标，其使用的是自己的商品; 而在反向假冒中行为人盗用的是别人的商品而使用的是自己的商标。鉴于反向假冒中行为人使用的是自己的商标，与一般的商标侵权不同，一些国家并未将其纳入商标侵权的范围之中，而商标假冒则得到了各国立法的普遍认可。
5． 现有技术
【答案】现有技术，是指申请日以前在国内外为公众所知的技术。对于2009年10月1日以前提交的专利申请来说，现有技术包括在申请日（有优先权的，指优先权日）以前在国内外出版物上公开发表、在国内公开使用或者以其他方式为公众所知的技术。现有技术应当是在申请日以前公众能够得知的技术内容。换句话说，现有技术应当在申请日以前处于能够为公众获得的状态，并包含有能够使公众从中得知实质性技术知识的内容。对于2009年10月1日以后提交的专利申请（包括当日），依照修改后专利法的定义，所称现有技术，是指申请日以前在国内外为公众所知
的技术。
6． 先用权与优先权（在专利制度中）
【答案】（1）概念
①先用权是指专利申请前，己经有人做好制造或者使用的必要准备，则在批准申请人的专利权之后，上述人员仍可在原范围内继续制造或者使用的权利。国际上一般都把“先用权”当作不能视为侵犯专利的情况之一。
②优先权包括国际优先权和国内优先权
a. 申请人自发明或实用新型在外国第一次提出专利申请之日起12个月内，或者自外观设计在外国第一次提出专利申请之日起6个月内，又在中国就相同主题提出专利申请的，依照该外国同中国签订的协议或者共同参加的国际条约，或者依照相互承认优先权原则，可以享有优先权。
b. 申请人自发明或实用新型在中国第一次提出专利申请之日起12个月内，又向国务院专利行政部门就相同主题提出改进的专利申请的，可以享有优先权。
（2）二者的关系
①二者的法律效果不同。先用权的法律效力在于阻却违法，使先用权人依先用的事实对抗专利权人的侵权主张; 优先权的法律效力在于保护专利申请权人的专利申请不丧失新颖性，以第一次提出专利申请日为判断新颖性的时间标准。
②二者的保护对象不同。先用权保护的是使用他人专利者，优先权保护的是使用自己专利者。优先权的保护以保护对象日后的专利申请行为为前提，而先用权的保护则无此要求。
二、简答题
7． 简述集成电路布图设计专有权及限制。
【答案】（1）集成电路布图设计专有权的内容
集成电路布图设计专有权简称布图设计权，是指权利持有人对于权利客体所能够行使的权利。 ①复制权
权利人有权通过光学的、电子学的方式或其他方式来复制其受保护的布图设计。
②商业利用权
商业利用权是指布图设计权人享有的将受保护的布图设计以及含有该受保护的布图设计的集成电路或含有此种集成电路的产品进行商业利用的权利。
（2）集成电路布图设计专有权的限制
①合理使用
为个人目的而复制受保护的布图设计可以不经权利人许可，不向其支付报酬; 单纯为评价、分析、研究、教学等目的而复制受保护的布图设计的，可以不经权利人许可，不向其支付报酬。
②反向工程
在依据前项评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计的，可以不经权利人许可，不向其支付报酬。