当前位置:口腔医学技术(主管技师)题库>专业知识题库

问题:

[单选,A2型题,A1/A2型题] 下列关于全口义齿蜡型基托的范围,不正确的是()

A . 唇颊侧止于唇颊黏膜与牙槽嵴唇颊黏膜的反折线,让开唇颊系带
B . 下颌舌侧止于口底黏膜与牙槽嵴舌侧黏膜的反折线,让开舌系带
C . 上颌后缘止于腭小凹两侧翼上颌切迹的连线
D . 下颌后缘止于磨牙后垫的1/2~2/3
E . 以上全不正确

静息电位接近于下列哪种电位() 钠平衡电位。 钾平衡电位。 钠平衡电位与钾平衡电位之差。 钠平衡电位与钾平衡电位之和。 锋电位与超射之差。 全口义齿上颌切牙切缘应位于上唇下() 0mm。 1mm。 2mm。 3mm。 4mm。 形成Na+、K+在细胞内外不均衡分布的主要原因是() 安静时K+比Na+更易透过细胞膜。 兴奋时Na+比K+更易透过细胞膜。 K+的不断外流和Na+的不断内流。 膜两侧无离子交换。 膜上Na+-K+依赖式ATP酶的活动。 上半口义齿蜡基托的封闭区是() 腭小凹。 颧突区。 上颌结节。 上颌颊角区。 上颌后堤区。 选磨的目的是() 消除正中早接触。 消除侧向干扰。 消除前伸干扰。 降低垂直距离。 达到平衡。 下列关于全口义齿蜡型基托的范围,不正确的是()
参考答案:

  参考解析

上颌后缘应在腭小凹后2mm处形成后堤区,以起到边缘封闭的作用。

在线 客服