题目：稀土掺杂氧化铝薄膜的制备与宽带发光研究

随着光纤通信和集成电子学的发展，人们对通讯容量和实现光集成提出愈来愈高的要求，现有的掺铒光纤放大器（EDFA）和掺铒光波导放大器(EDWA)已经不能满足要求，亟需拓展它们的增益带宽。因此，研究能够在整个硅基光纤最低损耗带（1.4-1.7µm）获得到有效光发射的稀土掺杂宽带发光材料具有重要的现实意义和应用价值。本论文围绕“稀土掺杂氧化铝薄膜的制备和宽带发光研究”这一课题开展了一系列研究工作。主要内容包括通过溶胶-凝胶工艺制备了Er掺杂Al2O3薄膜，用X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜法（SEM）研究样品薄膜的结构和形貌；通过能谱仪（EDS）测试了薄膜的成份，并和实验掺杂比较；采用760nm的激光器作为激发源研究了样品薄膜的近红外发光。成份分析显示稀土比较均匀的分布到样品薄膜中，结构和形貌分析显示我们制备的薄膜基本都处在晶态，而且晶态成份比较复杂，在较高的退火温度下能获得表面形貌不错的薄膜。在掺杂浓度提高的过程中，薄膜的近红外发光减弱，但是在1200℃下，4：3（铝铒比）的掺杂浓度的硅基底的薄膜上我们获得了近200nm宽带发光，但是发光峰不是特别平坦，但是这改变了高掺杂会减弱发光的单一结论，为今后在高掺杂下进行共掺提供了实验支持。