消除正中的早接触点、可调磨的位置包括() A．上舌尖。 B．下颊尖。 C．中央窝。 D．近中边缘嵴。 E．远中边缘嵴。
下列属于HLA复合体的经典Ⅱ类基因的是() A．HLA-DM。 B．HLA-DN。 C．HLA-DQ。 D．HLA-DR。 E．HLA-DP。
消除侧方干扰() A．选磨应在非支持牙尖上。 B．选磨牙为少数牙、应反复多次、直到所有非支持牙尖都有接触为止。 C．每次只选磨单颌。 D．要求患者作侧方咬合。 E．若需选磨尖牙，多磨下尖牙唇斜面。
正常情况下，表达MHC-Ⅰ类分子的细胞有() A．肝、肾、皮肤、主动脉和肌细胞。 B．淋巴细胞。 C．血小板、网织红细胞。 D．成熟红细胞、神经细胞及滋养层细胞。 E．白细胞。
下列说法不正确的是() A．防牙槽嵴变形，以及让口感舒适，全口义齿应昼夜戴用。 B．进食后应取下义齿清洁后再戴上。 C．患者疼痛时可自行用砂纸、小刀等器具刮除疼痛区域的义齿组织面。 D．睡觉时应将义齿摘下洗净，置于冷水中。 E．义齿清洁可用弱酸或弱碱液体，并应置于热水中浸泡。
下列属于HLAⅡ类分子的是()
