[单选,A2型题,A1/A2型题] 以下哪项不是设计覆盖义齿暴露牙周基托的设计原则（）

远中游离端缺失的可摘局部义齿，基托要求（） 基托蜡型适当减小。 基托蜡型适当加大。 不需要制作唇侧基托。 需要制作唇侧基托。 基托蜡型适当加厚。 基托蜡型考虑需缓冲的部位，下列哪项除外（） A.上颌隆突。 B.上颌结节颊侧。 C.下颌隆突。 D.覆盖残根。 E.唇颊系带。 覆盖义齿长冠基牙牙冠的长度为龈缘上（） 3～8mm。 3～6mm。 3～5mm。 3～4mm。 齐龈或龈上3mm以内。 有关兴奋在同一细胞内传导的叙述，哪项是错误的（） 是由局部电流引起的逐步兴奋过程。 可兴奋细胞兴奋传导机制基本相同。 有髓神经纤维传导方式为跳跃式。 局部电流强度数倍于阈强度。 呈电紧张性扩布。 单颌覆盖义齿颌间距离应在多大以上（） 4mm。 6mm。 8mm。 10mm。 以上均不是。 以下哪项不是设计覆盖义齿暴露牙周基托的设计原则（）