题目：基于掩膜的光场成像及其重构技术研究

光场成像技术是将计算机技术与精密光机电技术紧密结合发展而成的一种计算成像技术，通过对成像系统光场分布计算重演，经过图像重构，实现数字对焦，获得清晰的目标影像，重现出不同深度的目标信息，从而实现“先拍照后对焦”的核心功能。这种技术突破了传统几何成像技术的某些局限，在光学成像测量、遥感探测等方面有重要的意义。论文针对基于掩膜的光场成像技术展开了较为深入的研究。首先，在分析光场成像技术的原理和几种实现方式的基础上，利用软件仿真建立了基于掩膜的光场成像模型，在二维探测器上获取了四维光场图像，并对仿真生成的光场图像进行了分析。其次，研究了数字对焦光场成像技术的原理和特点，实现了频率域数字对焦图像重构算法，得到了对焦于不同深度的数字对焦序列图像。同时分析了精确数字对焦的范围，且对含有深度信息的目标合成了大景深图像。最后，搭建基于掩膜的光场成像演示实验平台，对拍摄得到的光场图像进行数字对焦处理，成功复原出原始图像信息。该演示实验对光场成像技术在实际工作中的应用展开尝试，并对实验结果进行了分析和总结，为后续的研究奠定了基础。