题目：四角状氧化锌晶须表面改性技术及其性能研究

采用铁氧体化学镀的方法，成功在四角状氧化锌晶须(T-ZnOw)表面制备了一层铁氧体薄膜。利用X射线衍射仪、光学显微镜、扫描电子显微镜研究了T-ZnOw化学镀前后的结构和形貌。研究了铁氧体化学镀工艺中温度和pH对镀膜结构和形貌的影响，确定了T-ZnOw表面化学镀覆铁氧体的最佳工艺参数。在30～50℃范围内，镀覆温度的升高有利于薄膜完全包覆氧化锌晶须表面； pH为5.0时，最有利于铁氧体薄膜的完全包覆。采用振动磁强计研究了不同镀覆温度及pH值条件下镀膜后T-ZnOw的磁滞回线。结果表明化学镀后晶须具有软铁磁性，晶须完整镀覆铁氧体薄膜后在相同磁场强度下的磁化强度降低。利用同轴法测量了镀后T-ZnOw与石蜡混合物(镀后T-ZnOw与石蜡的体积比为10%、20%和30%)在2-18GHz范围内的复介电常数和复磁导率。通过理论公式计算了三种试样的介电损耗、磁损耗以及在不同厚度下的电磁波吸收曲线。结果发现随着混和物中镀膜后T-ZnOw含量的增加，介电常数虚部和实部先增加后减小，磁导率虚部与实部略有增加。介电损耗随着混合物中镀后T-ZnOw含量的增加先增加后减小，磁损耗随之一直增加，并在镀后T-ZnOw含量为20%和30%时，先后出现因畴壁共振和自然共振引起的吸收峰。电磁波吸收曲线的计算结果表明，当镀后晶须含量低时，对电磁波的吸收主要来自T-ZnOw的介电损耗，随着镀晶须含量的增加，磁损耗增强，与介电损耗吸收作用相当。当镀后晶须含量为30%、吸波涂层厚度为2mm时，最大吸收率达到-13dB，小于-10dB的频带为16GHz～18GHz；厚度为3mm时，磁损耗峰与介电损耗峰交叠，最大吸收率达到-10dB，小于-5dB的频带宽度达到10GHz。