异构化反应装置中C8环烷主要损失在（）。 ["A、反应器","B、气液分离罐","C、脱庚烷塔顶","D、白土塔中"]
MI试验与仪器出料口中（孔）的光洁度有关。
GQ100/1H3中其GQ表示（） ["A、等径圆形支柱","B、高强度支柱","C、圆钢支柱","D、普通支柱"]
接触线磨损的程度一级是12.0－11.0mm，二级是（）mm ["A、10.1—9.2","B、10.9—10.2","C、10.5—10.0","D、10.0—11.0"]
光、热、氧是引起高分子材料老化的主要原因。
问卷的一般结构包括封面信、指导语、（）、编码等。
