以下部位不是义齿基托常见的缓冲部位的是（） 唇侧系带。 颊侧系带。 腭穹隆突起。 牙槽嵴顶处。 异常骨突区。
远中游离端缺失的可摘局部义齿，基托要求（） 基托蜡型适当减小。 基托蜡型适当加大。 不需要制作唇侧基托。 需要制作唇侧基托。 基托蜡型适当加厚。
基托蜡型考虑需缓冲的部位，下列哪项除外（） A.上颌隆突。 B.上颌结节颊侧。 C.下颌隆突。 D.覆盖残根。 E.唇颊系带。
杆附着体的杆应位于（） 牙槽嵴顶上方。 牙槽嵴顶唇侧。 牙槽嵴顶颊侧。 不与牙槽嵴顶保持平行关系。 紧贴牙槽嵴黏膜。
有关兴奋在同一细胞内传导的叙述，哪项是错误的（） 是由局部电流引起的逐步兴奋过程。 可兴奋细胞兴奋传导机制基本相同。 有髓神经纤维传导方式为跳跃式。 局部电流强度数倍于阈强度。 呈电紧张性扩布。
覆盖义齿短冠基牙牙冠的长度为龈缘上（）
