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集成电路制造工艺员(三级)题库
问题:
[单选] 悬浮在空气中的颗粒称为()。
A . 悬浮物
B . 尘埃
C . 污染颗粒
D . 浮质
危害半导体工艺的典型金属杂质是()。 2族金属。 碱金属。 合金金属。 稀有金属。 当开采深凹露天矿时,矿山工程延伸速度相同的条件下,采矿工程延伸速度最大的开拓方案是那种? 港口机械的使用率是指机械的()台时占日历台时的百分比。 完好。 故障。 使用。 保养。 西方哲学智慧的源头是(). 沾污引起的电学缺陷引起(),硅片上的管芯报废以及很高的芯片制造成本。 不会影响成品率。 晶圆缺陷。 成品率损失。 晶圆损失。 悬浮在空气中的颗粒称为()。
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危害半导体工艺的典型金属杂质是()。
当开采深凹露天矿时,矿山工程延伸速度相同的条件下,采矿工程延伸速度最大的开拓方案是那种?
港口机械的使用率是指机械的()台时占日历台时的百分比。
西方哲学智慧的源头是().
沾污引起的电学缺陷引起(),硅片上的管芯报废以及很高的芯片制造成本。
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