烤瓷熔附金属全冠的遮色瓷厚度应掌握在（） 越薄越好。 越厚越好。 0.1mm。 0.2mm。 0.5mm。
射线在组织的射程以下哪一描述正确（） α射线>β线>俄歇电子。 β射线>α射线>俄歇电子。 俄歇电子>β射线>α射线。 β射线>俄歇电子>α射线。 α射线>俄歇电子>β射线。
牙龈会因失去食物按摩而废用萎缩是由于（） 牙冠轴面突度过大。 牙冠轴面突度过小。 牙冠轴面无突度。 牙冠牙合外展隙过小。 牙冠牙合面食物排溢道不明显。
冠内附着体阴性结构应放置在基牙基底冠远中或近中邻面，颊舌向（） 中1／3。 颊侧1/3。 舌侧1／3。 应偏向颊侧。 应偏向舌侧。
制作冠外附着体时，阳性附着体底部与牙槽嵴顶黏膜之间间隙应有（） 1mm。 1.5mm。 2mm。 2.5mm。 3mm。
为防止烤瓷熔附金属全冠戴入后食物嵌塞，应采取的措施除了（）
