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问题:
[填空题] 在正常生产中随着生产的进行分子比会逐渐()。
目前我厂计算机模糊控制系统主要是对电解槽进行槽电压控制和氧化铝浓度。当电解槽效应过多或炉底沉淀过多时,可通过微机修改下料间隔和()进行调整。 阴极副反应主要有铝的溶解反应、()。 磁场对电解槽的影响主要表现在:铝液回流、()、滚铝、铝液表面倾斜、铝液隆起等几个方面。 炉底压降是由铝液-碳块、()、碳块-阴极钢棒、阴极钢棒本身、组成。 电解质的温度在槽工作电压不变的情况下,其高低还与分子比和()有关。 在正常生产中随着生产的进行分子比会逐渐()。
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目前我厂计算机模糊控制系统主要是对电解槽进行槽电压控制和氧化铝浓度。当电解槽效应过多或炉底沉淀过多时,可通过微机修改下料间隔和()进行调整。
阴极副反应主要有铝的溶解反应、()。
磁场对电解槽的影响主要表现在:铝液回流、()、滚铝、铝液表面倾斜、铝液隆起等几个方面。
炉底压降是由铝液-碳块、()、碳块-阴极钢棒、阴极钢棒本身、组成。
电解质的温度在槽工作电压不变的情况下,其高低还与分子比和()有关。
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