[单选] 二氧化硅生长过程中，当分凝系数小于1时，会使二氧化硅-硅界面处硅一侧的杂质浓度（）。

硅-二氧化硅系统中含有的最主要而对器件稳定性影响最大的离子是（）。 钠。 钾。 氢。 硼。 下面（）操作，可引起精馏塔顶温度的升高。 A、降低回流量。 B、提高回流量。 C、降低加热蒸汽量。 D、提高塔顶压力。 正常生产时，影响精馏塔顶温度的主要因素有哪些？ WLAN自动认证业务如何进行流量查询？ 在甲醇精馏中，提高粗甲醇的水分含量，精馏塔顶温度将（）。 A、上升。 B、下降。 C、不变。 D、二者没有关系。 二氧化硅生长过程中，当分凝系数小于1时，会使二氧化硅-硅界面处硅一侧的杂质浓度（）。