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集成电路制造工艺员(三级)题库
问题:
[单选] 下列几种氧化方法相比,哪种方法制得的二氧化硅薄膜的电阻率会高些()。
A . 干氧氧化
B . 湿氧氧化
C . 水汽氧化
D . 与氧化方法无关
调试设备不是报告前演练的必需过程。 躲闪防守主要受什么素质的影响?() 灵敏素质。 柔韧素质。 力量素质。 耐力素质。 会后交流对于学术会议的圆满成功举办是可有可无的。 “篇幅是否适中”是编辑初审的内容。 保监发〔2008〕70号规定严禁哪些违法违规行为?(举例即可) 下列几种氧化方法相比,哪种方法制得的二氧化硅薄膜的电阻率会高些()。
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调试设备不是报告前演练的必需过程。
躲闪防守主要受什么素质的影响?()
会后交流对于学术会议的圆满成功举办是可有可无的。
“篇幅是否适中”是编辑初审的内容。
保监发〔2008〕70号规定严禁哪些违法违规行为?(举例即可)
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