[单选] 开挖停机面以上或停机面以下不深的地方的土石，最适用于选择（）

在半导体生产中，湿法腐蚀是最主要的用来去除表面材料的刻蚀方法。 刻蚀的高选择比意味着只刻除想要刻去的那一层材料。 （）和（）是市场竞争优势的体现，也是最大限度获取经济利益的保证。 硅二极管具有（）导电性能。 A、以上均可以。 B、双向。 C、反向。 D、单向。 刻蚀速率通常正比于刻蚀剂的浓度。 开挖停机面以上或停机面以下不深的地方的土石，最适用于选择（）