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集成电路制造工艺员(三级)题库
问题:
[单选] 为了避免()在经过氯化物等离子体刻蚀之后的残留物使其发生腐蚀,必须在刻蚀完毕之后再增加一道工序来除去这些表面残留物。
A . 多晶硅
B . 单晶硅
C . 铝硅铜合金
D . 铜
散手比赛时,在一局比赛中先完成()个三分动作者,被判定优势胜利。 我可以通过飞信Bar给我自己的手机发短信吗? 如何自动登录飞信Bar? 门机静负荷试验是将额定起升重量的()%的重块,起吊离地面100mm左右,悬空10分钟,没有下滑现象。 105。 110。 120。 125。 散手比赛中用腿法击中对方头部得()分。 为了避免()在经过氯化物等离子体刻蚀之后的残留物使其发生腐蚀,必须在刻蚀完毕之后再增加一道工序来除去这些表面残留物。
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散手比赛时,在一局比赛中先完成()个三分动作者,被判定优势胜利。
我可以通过飞信Bar给我自己的手机发短信吗?
如何自动登录飞信Bar?
门机静负荷试验是将额定起升重量的()%的重块,起吊离地面100mm左右,悬空10分钟,没有下滑现象。
散手比赛中用腿法击中对方头部得()分。
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