[填空题] 个别牙齿错位包括：唇向、（）、（）、腭向、（）、（）、高位、（）、（）、易位、（）等错位。

X线头影测量基准平面有（）、（）、（）。 灵长间隙指在上颌（）的近远中出现的间隙。 最常使用的支抗有（）支抗、（）支抗和（）支抗。 圈形卡环适用于（）。 金合金全冠抛光所用的抛光剂是（）。 个别牙齿错位包括：唇向、（）、（）、腭向、（）、（）、高位、（）、（）、易位、（）等错位。