● 摘要
徐成海，陆峰，谢元华. 氧化锌铝透明导电膜[J]. 真空电子技术，2003，(6)：39-49韩雪，夏慧. 透明导电膜及靶材[J]. 电子元件与材料，1998， 27 (1) ：30-35戴达煌，周克崧，袁镇海等. 现代材料表面技术科学[M]. 北京：冶金工业出版社， 2001：92-99王文文. 透明导电氧化物(TCO)薄膜的性能及辐照研究 [D]. 北京：北京航空航天大学，2007林鸿益，张众，丁世昌等. 纳米ZnO薄膜制备技术及其特性的研究[J]. 北京理工大学学报.1995，15：132-137王卿璞. ZnO薄膜的制备及发光特性的研究[D]. 山东：山东大学，2003赵谢群，邱向东，林鸿益.氧化锌薄膜的研究与开发进展[J].半导体技术，1998，23(6):8-12黄宇，熊强，薛俊明等. 衬底温度对中频磁控溅射ZnO∶Al透明导电薄膜性能的影响[J]. 兵工学报，2006，27(5)田民波 刘德令. 薄膜科学与技术手册[M]. 北京：机械工业出版社，1991：263-593赵谢群. 透明导电氧化物薄膜研究现状与产业化进展[J]. 电子元件与材料，2000，19(1)：40－41王力衡，黄运添，郑海涛. 薄膜技术[M]，北京：清华大学出版社，1991：1-204田民波. 薄膜技术与薄膜材料[M]，北京：清华大学出版社，2006：472-509曲喜新. 电子薄膜材料[M]，北京：科学出版社，1996程星华. 磁电薄膜电极LaNiO3体系结构与性能研究[D]. 北京：北京航空航天大学，2007唐伟忠. 薄膜材料制备原理、技术及应用[M]. 北京-冶金工业出版社，1998：184-190祁景玉. X射线结构分析[M]. 上海：同济大学出版社，2003：79-83张锐. 现代材料分析方法[M]. 北京：化学工业出版社，2007：226-231本原纳米仪器公司. 原子力显微镜/AFM各种成像模式的原理[DB/OL]，http://www.spm.com.cn/afm_mode.shtml，2007-05/2007-12中国科学院半导体研究所理化分析中心. 半导体的检测与分析[M]. 北京：科学出版社，1984方俊，杨万莉. n型透明导电氧化物薄膜的研究新进展[J]. 陶瓷，2006，5：12-14冯文修. 半导体物理学基础教程[M]. 北京-国防工业出版社，2005汪冬梅. ZnO薄膜和Al掺杂ZnOZAO薄膜的射频磁控溅射制备及其性能研究[D]. 合肥：合肥工业大学，2006Hans Joachim Glaser. 大面积薄膜镀膜[M]. 上海：上海交通大学出版社，2006：117-127
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