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问题:

[单选] 全口义齿排牙时,下颌第二磨牙远中应不超过()

A . A.磨牙后垫前缘
B . B.磨牙后垫前1/2
C . C.磨牙后垫中1/3
D . D.磨牙后垫后1/3
E . E.磨牙后垫后缘

可用于检测IgM类型的RF的方法() A.胶乳颗粒凝集实验。 B.速率散射比浊法。 C.ELISA。 D.激光比浊法。 E.RIA法。 对无牙颌后堤区的描述,正确的是() A.应在上下唇系带处制作后堤区。 B.上颌硬区应制作后堤区。 C.上颌后堤区位于口腔前庭沟内。 D.上颌后堤区是上颌全口义齿后缘封闭区。 E.颊棚区也称为后堤区。 对单一抗原成分进行区别检测时,较常用的检测方法是() A.ELISA。 B.WestenBlot。 C.对流免疫电泳。 D.免疫双向扩散法。 E.RIA。 ANA常见的类型有() A.IgG。 B.IgA。 C.IgM。 D.IgD。 E.IgE。 全口义齿排牙时,下颌曲线的延长线应() A.与磨牙后垫1/2处一致。 B.与磨牙后垫前1/3与中1/3部分的交界处一致。 C.与磨牙后垫中1/3与后1/3部分的交界处一致。 D.与磨牙后垫中1/3与下1/3部分的交界处一致。 E.与磨牙后垫上1/3与中1/3部分的交界处一致。 全口义齿排牙时,下颌第二磨牙远中应不超过()
参考答案:

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