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问题:

[单选,A2型题,A1/A2型题] 义齿基托加厚的常见部位如下,除外()

A . 牙槽嵴吸收较多处
B . 牙槽嵴缺损处
C . 颊侧基托
D . 唇侧基托
E . 腭侧基托

峰电位的幅值等于()   静息电位与负后电位之和。 K+平衡电位与超射值之和。 静息电位绝对值与超射值之和。 Na+的平衡电位。 K+的平衡电位。 全口义齿的缓冲区未予缓冲处理,最可能出现的后果是() 义齿咀嚼功能不良。 义齿固位差。 义齿翘动。 疼痛。 义齿纵折。 主要用于制作蜡基托、蜡堤及人工牙蜡型的蜡是() 嵌体蜡。 铸道蜡。 黏蜡。 基托蜡。 印模蜡。 制作上颌基托时,其基托伸展范围的大小与下列内容关系不密切的是() 缺失区的部位。 缺牙的多少。 牙槽嵴的吸收程度。 支持形式。 人工牙的种类。 决定细胞在单位时间内能够产生兴奋的最高频率的是() 绝对不应期。 相对不应期。 超常期。 恢复期。 正常期。 义齿基托加厚的常见部位如下,除外()
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