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问题:

[单选,A1型题] 下列叙述中不正确的是()

A . 腭护板可以戴到正式义颌完成时
B . 腭护板戴入后,一般不需要修改
C . 腭护板戴入后,白天、夜间均要戴
D . 腭护板可在外科手术后6~10天制作
E . 腭护板可以周期性添加暂衬材料

以下关于金瓷冠基底冠的描述,错误的是() 与预备体密合度好。 支持瓷层。 金瓷衔接处为刃状。 金瓷衔接处避开咬合区。 唇面为瓷层留出0.85~1.2mm间隙。 与金瓷冠强度无关的因素是() 基底冠厚度。 合金种类。 金瓷的匹配。 金瓷结合。 瓷粉的颜色。 可摘局部义齿设计中,临床对基牙倒凹的深度和坡度的要求为() 深度>1mm,坡度<20°。 深度>1mm,坡度>20°。 深度<1mm,坡度>20°。 深度<1mm,坡度<20°。 以上均不对。 3/4冠的缺点是() 不易就位。 不能做固定桥固位体。 牙体预备量大。 外形线长,不利防龋。 颈缘线长,对龈缘刺激大。 发射俄歇电子的放射性核素发挥最大治疗作用的衰变位置是() A.靠近DNA。 B.细胞膜上。 C.胞浆内。 D.组织间液。 E.线粒体。 下列叙述中不正确的是()
参考答案:

  参考解析

腭护板戴入后,需要反复调改。

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