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题目:Fe掺杂GaN及空位的第一性原理研究

关键词:密度泛函理论;掺杂GaN;磁性;电子结构;本征空位

  摘要

GaN是近些年来新发展起来的第三代半导体材料。GaN具有宽带隙、发光效率高、热导率高、硬度大、介电常数小等优良的光学、电学及化学性质。本文在密度泛函理论框架下,利用第一性原理,对Fe掺杂纤锌矿相GaN、空位掺杂纤锌矿GaN、Fe和空位共同掺杂纤锌矿GaN进行了计算,研究了其磁性、电子结构的变化情况。首先,对Fe掺杂纤锌矿相GaN进行了磁性和电子结构的计算。结果表明,Fe掺杂纤锌矿GaN会在系统中引入反铁磁性(AFM)基态,并且Fe-N键的离子性更强,而Ga-N的共价性更强。其次,对Ga空位和N空位掺杂纤锌矿GaN进行了磁性和电子结构计算。结果表明,GaN中的N空位不会给系统引入磁性,而Ga空位会导致出现磁性,磁矩主要分布在近邻Ga空位的四个N原子上。最后,分析了N空位对Fe掺杂纤锌矿GaN的磁性和电子结构的影响。加入N空位后,系统由半导体性变为半金属性,并且随N空位位置的不同,两个Fe原子的磁性相互作用仍为AFM基态或变为亚铁磁(FIM)基态。加入N空位后,若两个Fe原子的周围环境相同,则磁性相互作用仍为AFM;若两个Fe原子周围环境不同,则磁性相互作用变为FIM。