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问题:

[单选] 单颌覆盖义齿颌间距应在()以上

4mm。6mm。8mm。10mm。以上均不是。

问题:

[单选] 杆卡式覆盖义齿底部应与黏膜间保持一以上间隙,以获得良好的自洁作用()

2mm。3mm。1.5mm。2.5mm。杆与黏膜紧密接触。

问题:

[单选] 杆附着体的杆应位于()。

牙槽嵴顶上方。牙槽嵴顶唇侧。牙槽嵴顶颊侧。不与牙槽嵴顶保持平行关系。紧贴牙槽嵴黏膜。

问题:

[单选] 以下有关覆盖义齿基托的描述错误的是()。

尽可能少覆盖龈边缘。无牙区基托设计与传统总义齿相近。可设计暴露牙周的基托。根帽和基托要作为一个形态和功能单位考虑。基托与基牙应紧密接触,使基牙能分散咬合力。

问题:

[单选] 以下哪项不是设计覆盖义齿暴露牙周基托的设计原则()

尽可能少覆盖龈边缘。以金属为邻面边缘。基牙数目越多,基托暴露可越多。暴露牙周基托可消除基托对边缘龈的机械刺激。暴露牙周基托增加了基托周围的菌斑堆积,需加强清洁。

问题:

[单选] 覆盖义齿短冠基牙牙冠的长度为龈缘上()。

3~8mm。3~6mm。3~5mm。3~4mm。齐龈或龈上3mm以内。

问题:

[单选] 如需利用覆盖义齿基牙抵抗义齿所受的侧向力,则基牙至少需保留多高()。

2mm。3mm。4mm。5mm。6mm。

问题:

[单选] 覆盖义齿基托与覆盖基牙之间的间隙常规保留约()。

0.5mm。1mm。1.5mm。2mm。紧密接触,无间隙。

问题:

[单选] 下列关于冠内附着体固位与稳定的叙述,错误的是()。

附着体阴性结构与阳性结构接触面积与固位力成正比。附着体阴性结构与阳性结构接触密合程度与固位力成正比。义齿的稳定性决定于栓体与栓道侧壁间的密合程度。自制附着体阴性结构即栓道的轴壁形态对固位力有影响。精密附着体在义齿制作过程中,附着体预成品,通过包埋、铸造、研磨等工序,会影响附着体阴性结构和阳性结构的密合度,影响附着体固位。

问题:

[单选] 采用冠内附着体的基牙牙冠龈径高度应()。

>3mm。>4mm。>5mm。>6mm。>7mm。